ПНИЛ «Нанотехнологии и наноматериалы»

Приборная база:

1. Порошковый рентгеновский дифрактометр Empyrean фирмы PANalytical.
Позволяет проводить фазовый и структурный анализ кристаллических материалов.



2. Установка для атомно-слоевого осаждения ALDCERAM ML-200, предназначена для создания новых элементов микро- и наноэлектроники с использованием атомно-слоевого осаждения различных элементов. Речь идет о физико-химическом методе выращивания сверхтонких нанопленок из газовой фазы, при этом пленки обладают высокой однородностью и конформностью.



3. Настольный сканирующий электронный микроскоп PSEM eXpressfromAspex Позволяет проводить экспрез анализ морфологии и элементного состава образцов, порошков, керамики, тонких плёнок.



4. Рентгенофлуоресцентный cпектрометрShimadzu EDX-800P Cпектрометр серии EDX 800 HS (Shimadzu) предназначены для быстрого неразрушающего определения качественного и количественного элементного состава твердых и жидких образцов, порошков, гранул, пластин, пленок.



5. Зондовая нанолаборотория NTEGRA Spectra Оборудование предназначено для исследования морфологии тонких плёнок, а так же исследовать их магнитные и электрические свойства. Так же позволяет получаеть спектры комбинационного рассеяния.



6. Установка для измерения электрических и тепловых свойст материалов. Данная установка для одновременного измерения электросопротивления и теплового расширения полностью автоматизирована и позволяет проводить измерения в температурном интервале 80-1000К.



7. Автоматизированный многофункциональный комплекс для магнетронного нанесения покрытий «ВАТТ АМК-МИ». Данный комплекс предназначен для отработки воспроизводимой технологии осаждения тонких пленок с заданными свойствами и осаждения покрытий на подложки больших размеров (до формата А4), по отработанной заранее технологии.



8. Технологическая лаборатория. Включает в себя:
-муфельная печь;
-пресс;
-шаровая мельница Retsch PM-100;
-аналитические весы различных диапозонов;
-станок.



9. Химическая лаборатория для получения нанопорошков. Данный комплекс предназначен для отработки воспроизводимой технологии осаждения тонких пленок с заданными свойствами и осаждения покрытий на подложки больших размеров (до формата А4), по отработанной заранее технологии.



Рубрикатор


Сотрудничество
Образование
Фотоальбом
Новости
Полезные ссылки


ЦКП "Аналитическая спектроскопия"
НОЦ "Физика плазмы"
Минобразования и науки РФ
ФГУ НИИ РИНКЦЭ
Портал РФФИ
Дагестанский государственный
университет